[发明专利]化学机械抛光装置有效
| 申请号： | 201810394966.6 | 申请日： | 2018-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN109397071B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 黄君席;柯皇竹 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B37/30;B24B37/10;B24B57/02;B24B49/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种实施抛光工艺的装置包括：可旋转的抛光垫；温度传感器，配置为监测可旋转的抛光垫的顶面上的温度；第一分配器，配置为将保持在第一温度的第一浆料分配在可旋转的抛光垫上；以及第二分配器，配置为将保持在第二温度的第二浆料分配在可旋转的抛光垫上，其中，第二温度不同于第一温度以将可旋转的抛光垫的顶面上的温度保持在基本恒定的值。本发明的实施例还涉及化学机械抛光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种实施抛光工艺的装置，包括：可旋转的抛光垫；温度传感器，配置为监测所述可旋转的抛光垫的顶面上的温度；第一分配器，配置为将保持在第一温度的第一浆料分配在所述可旋转的抛光垫上；以及第二分配器，配置为将保持在第二温度的第二浆料分配在所述可旋转的抛光垫上，其中，所述第二温度不同于所述第一温度，以将所述可旋转的抛光垫的所述顶面上的所述温度保持在恒定的值。
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