[发明专利]一种减反射冷裱膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810399434.1 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108728008A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 涂大记;夏厚君;潘华;杨晓明 申请(专利权)人: 浙江福莱新材料股份有限公司
主分类号: C09J7/50 分类号: C09J7/50;C09J7/30;C09J7/25;C09J133/08;C08F220/18;C08F220/14;C08F230/02;C23C14/30;C23C14/08
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 周兵
地址: 314100 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种减反射冷裱膜及其制备方法,自上而下依次包括:减反射层、透明PET膜层、透明胶层和白硅纸层;其中,减反射层为致密氧化铪层和/或多孔氧化铪层,且致密氧化铪层的厚度为130‑140nm;多孔氧化铪层的厚度为88‑92nm,且孔隙率为76%‑80%;通过在冷裱膜的透明PET膜层真空沉积氧化铪层制备减反射冷裱膜,可以防止眩光和降低图片或照片表面亮度,大大提高图片或照片质量和清晰度,增强用户体验和宣传效果;且上述制备工艺简单,操作方便,易于规模化生产。
搜索关键词: 氧化铪层 冷裱膜 减反射 制备 致密 透明PET膜 减反射层 规模化生产 透明胶层 宣传效果 用户体验 照片表面 真空沉积 制备工艺 硅纸层 孔隙率 眩光 图片
【主权项】:
1.一种减反射冷裱膜,其特征在于,自上而下依次包括:减反射层、透明PET膜层、透明胶层和白硅纸层;其中,所述减反射层为致密氧化铪层和/或多孔氧化铪层,且所述致密氧化铪层的厚度为130‑140nm;所述多孔氧化铪层的厚度为88‑92nm,且孔隙率为76%‑80%。
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