[发明专利]一种冷裱膜用减反射层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810399450.0 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108754432A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 涂大记;夏厚君;潘华;杨晓明 申请(专利权)人: 浙江福莱新材料股份有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 周兵
地址: 314100 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种冷裱膜用减反射层及其制备方法,包括:在冷裱膜的透明PET膜层表面依次真空沉积至少一层致密无机氧化物层和至少一层多孔无机氧化物层,获得减反射层;由此制备的减反射冷裱膜可以防止眩光和降低图片或照片表面亮度,大大提高图片或照片质量和清晰度,增强用户体验和宣传效果;且上述制备工艺简单,操作方便,易于规模化生产。
搜索关键词: 冷裱膜 减反射层 制备 多孔无机氧化物 致密 无机氧化物层 规模化生产 透明PET膜 宣传效果 用户体验 照片表面 真空沉积 制备工艺 减反射 眩光 图片
【主权项】:
1.一种冷裱膜用减反射层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将冷裱膜在室温下固定于电子束蒸发镀膜机的样品台上,采用无机氧化物为靶材,将上述电子束蒸发镀膜机腔室抽至真空度为3×10‑4‑5×10‑4Pa;其中,所述冷裱膜依次包括透明PET膜层、透明胶层和白硅纸层;(2)调整上述电子束蒸发镀膜机的电子束入射角度为0°,在步骤(1)中所述冷裱膜的透明PET膜层表面沉积致密无机氧化物层,沉积厚度为130‑140nm;(3)调整上述电子束蒸发镀膜机的电子束入射角度为85°,在步骤(2)中所述致密无机氧化物层表面沉积多孔无机氧化物层;其中,所述样品台的转速为2‑3rpm,沉积速率为0.40‑0.45nm/s,沉积厚度为88‑92nm,且所述多孔无机氧化物层的孔隙率为76%‑80%;(4)依次重复步骤(2)和步骤(3)0‑2次,即得冷裱膜用减反射层。
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