[发明专利]高效低耗的镀膜设备在审
| 申请号： | 201810420199.1 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN108588659A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 刘月玲;刘润海;马驰 | 申请（专利权）人： | 京磁材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 史霞 |
| 地址： | 101300 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了高效低耗的全自动镀膜系统及镀膜方法，包括目标靶、靶源以及溅射腔体，其特征在于，所述目标靶包括码放基片的基片架，以及带动基片架位移的平移设备，所述目标靶与靶源平行；所述靶源包括靶材、磁体以及用于在靶源和目标靶之间产生电场的电场部件，所述靶材放置在磁体上；所述溅射腔体为真空密封腔体；其中，所述目标靶和靶源均设立在溅射腔体内部；本发明能够解决镀膜效率低、靶材利用率低、基片热效应明显的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 目标靶 靶源 溅射腔体 基片架 靶材 热效应 真空密封腔体 靶材利用率 电场 电场部件 镀膜设备 镀膜系统 镀膜效率 平移设备 溅射腔 体内部 镀膜 码放 平行 | ||
【主权项】：
1.高效低耗的全自动镀膜系统，包括目标靶、靶源以及溅射腔体，其特征在于，所述目标靶包括码放基片的基片架，以及带动基片架位移的平移设备，所述目标靶与靶源平行；所述靶源包括靶材、磁体以及用于在靶源和目标靶之间产生电场的电场部件，所述靶材放置在磁体上；所述溅射腔体为真空密封腔体；其中，所述目标靶和靶源均设立在溅射腔体内部。
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