[发明专利]一种微结构的制备方法有效
| 申请号： | 201810424106.2 | 申请日： | 2018-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN108640081B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 张军 | 申请（专利权）人： | 徐小女 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81C3/00 |
| 代理公司： | 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 | 代理人： | 周锦全 |
| 地址： | 321000 浙江省金*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微结构的制备方法，通过使用富氢材料形成的图形结构作为形成器件结构的模，并通过微波或激光加热，使得聚二甲基硅氧烷形成的微结构脱模变得容易，形成的微结构完整，并且通过表面改性达到较高的表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 制备 聚二甲基硅氧烷 表面改性 材料形成 激光加热 器件结构 图形结构 富氢 脱模 微波 | ||
【主权项】：
1.一种微结构的制备方法，其特征在于，所述方法包括：步骤1)选择衬底，所述衬底为玻璃、硅片、SOI、蓝宝石；步骤2)在所述衬底上沉积一层富氢材料；步骤3)在所述富氢材料上沉积一层光刻胶层；步骤4)形成光刻胶图形化掩膜；步骤5)刻蚀所述富氢材料，形成图形；步骤6)在所述图形上形成聚二甲基硅氧烷；步骤7)对聚二甲基硅氧烷进行固化，形成器件结构；步骤8)对所述富氢材料进行加热，使富氢材料释放出气体，使所述由聚二甲基硅氧烷形成的器件结构从所述富氢材料上分离，形成器件的上层微结构；步骤9)对释放后器件的上层微结构进行粗糙化处理，形成具有一定粗糙度的表面的微结构；步骤10)对具有一定粗糙度的表面的微结构表面进行疏水化处理；步骤11)对安装衬底即将与微结构进行键合的键合面进行表面疏水化处理；步骤12)将所述具有一定粗糙度的表面的微结构与安装衬底进行键合，形成微器件。
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