[发明专利]用于在电容耦接等离子体源下方对工件进行均匀照射的孔图案

摘要

本发明公开了一种用于与处理腔室一起使用的等离子体源组件，所述等离子体源组件包括区隔板，所述区隔板具有在所述区隔板的内部电气中心内的第一组孔，以及围绕所述外周缘的较小孔。所述孔的直径可从所述电气中心向外至所述周缘逐渐减小，或者可以离散地递减并且在所述外周缘处具有最小的直径。

主权项

1.一种气体分配组件，所述气体分配组件包括：多个楔形注射器单元，所述多个楔形注射器单元形成具有内周缘和外周缘的圆形主体，所述注射器单元中的至少一个包括等离子体源组件，所述等离子体源组件包括：楔形接地区隔板，所述楔形接地区隔板具有限定范围的外周缘和在所述范围内并且延伸穿过所述楔形接地区隔板的多个孔，所述多个孔包括第一组孔和第二组孔，所述第一组孔位于所述范围的内部部分上且所述第二组孔在所述第一组孔和所述楔形接地区隔板的外周缘之间，所述第一组孔具有第一直径且所述第二组孔具有第二直径，所述第二直径小于所述第一直径，所述第二组孔以楔形图案布置以符合所述楔形接地区隔板；以及楔形射频热电极，所述楔形射频热电极在所述模块化楔形外壳内，所述楔形射频热电极具有正面和背面，所述楔形射频热电极的所述正面与所述楔形接地区隔板间隔以限定间隙。