[发明专利]大尺寸合成石英玻璃衬底、评价方法、和制造方法在审
申请号: | 201810428812.4 | 申请日: | 2018-05-08 |
公开(公告)号: | CN108873599A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 石塚洋行;渡部厚;原田大实;竹内正树 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/60 | 分类号: | G03F1/60;G03F1/36 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种大尺寸合成石英玻璃衬底、评价方法、和制造方法。该大尺寸合成石英玻璃衬底具有至少1,000mm的对角线长度。假设在衬底表面上限定有效范围,并且将有效范围划分为多个评价区域,使得所述评价区域彼此部分重叠,每个评价区域中的平坦度为至多3μm。从具有高平坦度和在衬底表面内的最小局部梯度的石英玻璃衬底制备大尺寸光掩模。 | ||
搜索关键词: | 石英玻璃 衬底 评价区域 衬底表面 有效范围 合成 对角线 高平坦度 局部梯度 光掩模 平坦度 制备 制造 | ||
【主权项】:
1.一种具有前表面和后表面以及至少1,000mm的对角线长度的大尺寸合成石英玻璃衬底,其中在所述前表面和/或后表面上限定有效范围,将所述有效范围划分为多个评价区域使得所述评价区域彼此部分重叠,并且每个评价区域中的平坦度为至多3μm。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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