[发明专利]一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统在审
申请号: | 201810431492.8 | 申请日: | 2018-05-08 |
公开(公告)号: | CN110455412A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 张晶;曹奇志;胡宝清;邓婷;李建映;徐艳华;樊东鑫;王华华 | 申请(专利权)人: | 广西师范学院 |
主分类号: | G01J4/00 | 分类号: | G01J4/00 |
代理公司: | 50216 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 蓝文苑<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 530001广西壮族自*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明涉及光学图像信息采集技术领域,具体为一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统,包括光源、第一偏振调制模块、第二偏振调制模块、图像获取装置、第一准直透镜、第一成像镜、第二准直透镜、第二成像镜,所述第一偏振调制模块包括两块改进型萨瓦偏光镜Ⅰ、起偏器和第一半坡片,所述第二偏振调制模块包括两块改进型萨瓦偏光镜Ⅱ、检偏器和第一半坡片,所述每一块改进型萨瓦偏光镜包括两块萨瓦板、第二或第三半坡片。本发明技术方案与目前的偏振光栅快拍穆勒矩阵成像测偏技术相比,具有可获得更高透射率、更高消光比,更宽的光谱选择以及可一次性获取目标物体任一时刻的全部16个穆勒矩阵图像等优点。 | ||
搜索关键词: | 偏振调制模块 萨瓦偏光镜 改进型 矩阵成像 准直透镜 成像镜 光学图像信息 图像获取装置 双折射晶体 测偏系统 高透射率 光谱选择 获取目标 矩阵图像 偏振光栅 检偏器 起偏器 萨瓦板 消光比 一次性 光源 采集 | ||
【主权项】:
1.一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统,包括光源(1),所述光源(1)发射光线一侧依次设置有第一准直透镜(2)、第一成像镜(4)、第二准直透镜(5)、第二成像镜(7)和图像获取装置(8),其特征在于:所述第一准直透镜(2)和第一成像镜(4)之间设置有第一偏振调制模块(3),所述第二准直透镜(5)和第二成像镜(7)之间设置有第二偏振调制模块(6),所述光源(1)、第一准直透镜(2)、第一成像镜(4)、第二准直透镜(5)、第二成像镜(7)、图像获取装置(8)的中心点与所述第一偏振调制模块(3)、第二偏振调制模块(6)的中心点均位于同一直线上;/n所述第一准直透镜(2)与所述光源(1)的距离为第一准直透镜(2)的焦距f,所述第一成像镜(4)与所述第二准直透镜(5)的距离为第二准直透镜(5)焦距f的两倍2f,所述第二成像镜(7)与所述图像获取装置(8)的距离为第二成像镜(7)的焦距f。/n
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