[发明专利]光刻胶涂覆设备在审
| 申请号： | 201810431772.9 | 申请日： | 2017-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN108646516A | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 睿力集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/033 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶涂覆设备，包括：晶圆承载台；光刻胶喷涂系统，包括光刻胶供给源、第一供给管路及光刻胶喷嘴，第一供给管路一端与光刻胶供给源相连通；光刻胶喷嘴位于晶圆承载台中心的上方，且与第一供给管路远离所述光刻胶供给源的一端相连通；阻挡层喷涂系统包括阻挡剂供给源、第二供给管路及阻挡剂喷嘴；第二供给管路一端与曝光阻挡剂供给源相连通；阻挡剂喷嘴位于晶圆承载台的上方，且与第二供给管路远离所述阻挡剂供给源的一端相连通。本发明的光刻胶涂覆设备可以使得位于晶圆衬底边缘区域的光刻胶层不会被图形化，在后续工艺中，可以有效避免在晶圆衬底的边缘区域产生缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 供给管路 供给源 阻挡剂 光刻胶涂覆设备 晶圆承载台 光刻胶 光刻胶喷嘴 喷嘴 晶圆 连通 衬底边缘区域 光刻胶喷涂 边缘区域 光刻胶层 后续工艺 喷涂系统 图形化 阻挡层 衬底 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶涂覆设备，其特征在于，所述光刻胶涂覆设备包括：晶圆承载台，适于放置晶圆衬底，并带动所述晶圆衬底转动；光刻胶喷涂系统，包括光刻胶供给源；第一供给管路，一端与所述光刻胶供给源相连通；光刻胶喷嘴，位于所述晶圆承载台中心的上方，且与所述第一供给管路远离所述光刻胶供给源的一端相连通，适于向所述晶圆衬底的表面中心喷涂光刻胶；及，阻挡层喷涂系统，包括阻挡剂供给源；第二供给管路，一端与所述曝光阻挡剂供给源相连通；阻挡剂喷嘴，位于所述晶圆承载台的上方，且与所述第二供给管路远离所述阻挡剂供给源的一端相连通，适于向所述晶圆衬底的晶圆边缘区域喷涂阻挡层。
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