[发明专利]一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统在审
| 申请号： | 201810432051.X | 申请日： | 2018-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110455409A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 曹奇志;张晶;胡宝清;李建映;邓婷;王华华;樊东鑫 | 申请（专利权）人： | 广西师范学院 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28;G01J3/447 |
| 代理公司： | 50216 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 蓝文苑<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 530001广西壮族自*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学图像信息采集技术领域，具体为一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，包括扫描光源、第一偏振调制模块、第二偏振调制模块、图像获取装置、第一准直透镜、第一成像镜、第二准直透镜、第二成像镜，所述第一偏振调制模块包括第一萨瓦偏光镜和第二萨瓦偏光镜、起偏器和半坡片，所述第二偏振调制模块包括第三萨瓦偏光镜和第四萨瓦偏光镜、检偏器和半坡片。本发明与目前传统的穆勒矩阵测偏系统相比，不受外部环境因素影响，精准度更高，可一次性获取目标的谱信息、强度图像和穆勒矩阵图像，可提供目标物体的形影、组织结构、介电常数、含水量等信息。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振调制模块 萨瓦偏光镜 测偏系统 准直透镜 成像镜 光学图像信息 图像获取装置 外部环境因素 矩阵 获取目标 介电常数 矩阵成像 矩阵图像 目标物体 强度图像 扫描光源 组织结构 超光谱 传统的 检偏器 精准度 起偏器 一次性 采集 | ||
【主权项】：
1.一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，包括由前到后，依次设置的第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）和图像获取装置（8），其特征在于：所述第一准直透镜（2）入射光一侧设置有扫描光源（1），所述第一准直透镜（2）和所述第一成像镜（4）之间设置有第一偏振调制模块（3），所述第二准直透镜（5）和所述第二成像镜（7）之间设置有第二偏振调制模块（6），所述扫描光源（1）、第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）、图像获取装置（8）的中心点与所述第一偏振调制模块（3）、第二偏振调制模块（6）的中心点均位于同一直线L上；/n所述第一准直透镜（2）与所述扫描光源（1）的距离为第一准直透镜（2）的焦距f1，所述第一成像镜（4）与所述第二准直透镜（5）的距离为第二准直透镜（5）焦距f2的两倍2f2，所述第二成像镜（7）与所述图像获取装置（8）的距离为第二成像镜（7）的焦距f3。/n
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