[发明专利]微波源发射功率控制方法及微波发射系统有效
| 申请号： | 201810437958.5 | 申请日： | 2018-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN108617044B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 杨阳;黄卡玛;陈星;刘长军;朱铧丞;吴丽 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | H05B6/68 | 分类号： | H05B6/68 |
| 代理公司： | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人： | 李顺德 |
| 地址： | 610021 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及微波发射功率控制技术。本发明公开了一种微波源发射功率控制方法，包括步骤：a、设定采样率、反射功率阈值和反射功率变化率阈值；b、按照设定的采样率采集负载反射功率；c、根据步骤b采集的反射功率计算反射功率变化率；d、将采集的反射功率和计算得到的反射功率变化率与设定阈值及进行比较，当反射功率或反射功率变化率超过设定阈值执行步骤e，否则返回步骤b；e、向微波源发出控制信号调整发射功率；f、返回步骤b。本发明同时公开了采用上述方法进行微波源发射功率控制的微波发射系统。本发明的技术方案运用十分广泛，既可对单一磁控管微波源进行调控，也可对多个磁控管组成的微波源进行调控，非常适合工业微波加热系统的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 发射 功率 控制 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.微波源发射功率控制方法，其特征在于，包括步骤：a、设定采样率、反射功率阈值和反射功率变化率阈值；b、按照设定的采样率采集负载反射功率；c、根据步骤b采集的反射功率计算反射功率变化率；d、将采集的反射功率和计算得到的反射功率变化率与设定阈值及进行比较，当反射功率或反射功率变化率超过设定阈值执行步骤e，否则返回步骤b；e、向微波源发出控制信号调整发射功率；f、回步骤b。
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