[发明专利]一种曲率可控的复眼透镜的制备方法有效
申请号: | 201810438511.X | 申请日: | 2018-05-09 |
公开(公告)号: | CN108663730B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 刘永顺;连高歌;张平;吴一辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 赵勍毅 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明公开了一种曲率可控的复眼透镜的制备方法,包括刻蚀微孔阵列,成型第一光敏胶凸模、第一PDMS弹性凹模、第二光敏胶凸模、第二PDMS凹模,热压成型PC基的曲面复眼透镜等步骤。本发明的曲率可控的复眼透镜的制备方法采用转模复制的方法制备曲面复眼透镜,操作简单,加工周期短,通过光刻法控制子眼的形貌,一致性和可重复性好;通过薄膜弹性力和气体压力共同调控能制备曲面可控的复眼透镜;采用软质的PDMS材料,脱模过程损耗小,降低了制备成本,更适合大面积曲面复眼透镜的批量化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 曲率 可控 复眼 透镜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种曲率可控的复眼透镜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:以硅晶片为基片,通过光刻的方法,在所述硅晶片表面覆盖图形化的光刻胶作为掩膜,再通过干法刻蚀,在所述硅晶片上刻蚀微孔阵列;S2:在所述微孔阵列的表面覆盖PDMS薄膜,并置于可抽气的腔体之上,通过控制所述腔体内的压力调节所述PDMS薄膜的形变,形成平面微透镜阵列结构;S3:在变形后的所述PDMS薄膜上方浇注光敏胶,固化得到第一光敏胶凸膜;将PDMS混合物中经真空脱气消泡后,浇注到所述第一光敏胶凸模中,固化得到与所述平面微透镜阵列结构相反的第一PDMS弹性凹模;S4:将所述第一PDMS弹性凹模置于可抽气的腔体之上,通过控制所述腔体内的压力调节所述第一PDMS弹性凹模的形变,在形变后的所述第一PDMS弹性凹模上浇注光敏胶,固化得到具有曲面微透镜阵列结构的第二光敏胶凸模;S5:将脱泡后的PDMS混合物浇注到所述第二光敏胶凸模上,固化得到第二PDMS凹模;采用所述第二PDMS凹模热压成型PC板;S6:冷却到室温,脱模,得到PC基的曲面复眼透镜。
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