[发明专利]显示基板的制备方法及液晶设备的制备方法有效
| 申请号： | 201810438992.4 | 申请日： | 2018-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN108663854B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 武晓娟;毕谣;袁洪亮 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1341;H01Q1/36 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示基板的制备方法及液晶设备的制备方法，属于液晶天线和显示技术领域本发明的显示基板的制备方法，包括：在基底上依次沉积金属材料层和光刻胶材料层，形成包括金属图案和位于金属图案上方的光刻胶图案的图形；在任意两相邻的金属图案之间形成遮光材料；其中，遮光材料与光刻胶图案的亲疏液性相反；对遮光材料进行固化，形成遮光图案，以使遮光图案的厚度与金属图案的厚度相同，并去除光刻胶图案。通过选用亲疏液性相反的光刻胶图案和遮光材料，利用二者的排斥力，以使在滴注遮光材料时，遮光材料能够完全滴注在相邻的金属图案之间，此时，只要控制好遮光材料的量，即可使得所滴注的遮光材料在固化之后与金属图案的厚度相同。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 制备 方法 液晶 设备 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在基底上依次沉积金属材料层和光刻胶材料层，并通过构图工艺形成包括金属图案和位于所述金属图案上方的光刻胶图案；在任意两相邻的所述金属图案之间形成遮光材料；其中，所述遮光材料与所述光刻胶图案的亲疏液性相反；对所述遮光材料进行固化，形成遮光图案，以使所述遮光图案的厚度与所述金属图案的厚度相同，并去除所述光刻胶图案。
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