[发明专利]一种显示面板的制作方法以及显示面板有效
申请号: | 201810443917.7 | 申请日: | 2018-05-10 |
公开(公告)号: | CN108663855B | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 曹武 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供的显示面板的制作方法以及显示面板,提供一基板,其中,基板包括显示区和非显示区,在基板上形成光刻胶层,并通过曝光显影工艺在光刻胶层上形成第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域,在形成光刻胶图案的基板上涂敷遮光材料,并对遮光材料进行曝光显影,以在基板的非显示区上形成遮光层,其中,遮光层在第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物,以及在第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物。本发明通过这种方法,保留了制程中需要去除的光刻胶材料,提高了材料的利用率,从而减少显示面板的制作流程,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 显示面板 基板 保留区域 光刻胶 非显示区 光刻胶层 曝光显影 遮光材料 间隔物 遮光层 制作 光刻胶材料 光刻胶图案 生产效率 显示区 涂敷 制程 去除 保留 | ||
【主权项】:
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:提供一基板,所述基板包括显示区和非显示区;在所述基板上形成光刻胶层,并对所述光刻胶层进行曝光显影,以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案,所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域;在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料,并对所述遮光材料进行曝光显影,以在所述基板的非显示区上形成遮光层,其中,所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物,以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物,且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。
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