[发明专利]一种精确控制DLC膜层厚度的DLC膜层制备方法在审

专利信息
申请号: 201810450574.7 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN108505017A 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 辛存良;谢洪涛;何世安 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十六研究所
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/32;C23C16/02
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 奚华保
地址: 230043 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种精确控制DLC膜层厚度的DLC膜层制备方法,包括以下步骤:(1)对耐磨零部件进行多道清洗;(2)将清洗后的耐磨零部件放在N2气氛下烘干;(3)将烘干后的耐磨零部件放置在真空腔体中,并对真空腔体进行抽真空处理,直至真空腔体的真空度高于1×10‑6mbar时,开始进行DLC镀膜;(4)采用Ar气离子对耐磨零部件进行轰击;(5)采用正己烷和四甲基硅烷在耐磨零部件的表面进行沉积DLC膜层;(6)沉积DLC膜层后,进行破真空冷却至室温后,取出耐磨零部件,测量DLC膜层的厚度。本发明能够对DLC膜层的厚度进行精确控制,保证耐磨零部件摩擦副之间的配合间隙,而且无需再进行配磨加工工序,节省了装配时间,提高了特种设备零部件的装配效率。
搜索关键词: 耐磨零部件 真空腔体 层厚度 烘干 沉积 制备 清洗 抽真空处理 四甲基硅烷 配合间隙 特种设备 装配效率 磨加工 破真空 正己烷 轰击 离子 装配 零部件 冷却 摩擦 测量 取出 保证
【主权项】:
1.一种精确控制DLC膜层厚度的DLC膜层制备方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:(1)对耐磨零部件进行多道清洗,去除耐磨零部件上的油污及表面附着物;(2)将清洗后的耐磨零部件放在N2气氛下烘干;(3)将烘干后的耐磨零部件放置在真空腔体中,并对真空腔体进行抽真空处理,直至真空腔体的真空度高于1×10‑6mbar时,开始进行DLC镀膜;(4)采用Ar气离子对耐磨零部件进行轰击,以进一步清除耐磨零部件表面附着物,并活化耐磨零部件表面;(5)采用正己烷和四甲基硅烷在耐磨零部件的表面进行沉积DLC膜层;DLC膜层包括SiC层、SiC和C层、C层三层膜层,通过控制正己烷和四甲基硅烷的流量和沉积时间进行沉积膜层;(6)沉积DLC膜层后,进行破真空冷却至室温后,取出耐磨零部件,采用外径千分尺测量其镀膜前后的尺寸变化,得出DLC膜层的厚度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十六研究所,未经中国电子科技集团公司第十六研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810450574.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top