[发明专利]一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810454873.8 申请日: 2018-05-14
公开(公告)号: CN110491881B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 劳浔 申请(专利权)人: 上海和辉光电股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 201506 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法,所述阵列基板包括:薄膜晶体管,电容;所述电容包括:在衬底基板上设置的第一电极层,第一绝缘层,第二电极层;所述第一电极层的正投影区域为第一区域,所述第二电极层正投影区域为第二区域;所述第一电极层,所述第一绝缘层与所述第二电极层的正投影区域的重合区域形成电容;所述第二区域的宽度为第一宽度,除所述第二区域的所述第一区域的宽度为第二宽度,所述第一宽度大于所述第二宽度。
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板 制备 方法
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:薄膜晶体管,电容,所述电容用于补偿电路;所述电容包括:在衬底基板上设置的第一电极层,第一绝缘层,第二电极层;所述第一电极层的正投影区域为第一区域,所述第二电极层正投影区域为第二区域;所述第一电极层,所述绝缘层与所述第二电极层的正投影区域的重合区域形成电容;/n所述第二区域的宽度为第一宽度,除所述第二区域的所述第一区域的宽度为第二宽度,所述第一宽度大于所述第二宽度。/n
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