[发明专利]数字化光刻系统和方法有效
| 申请号： | 201810456416.2 | 申请日： | 2018-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN108681213B | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 梅文辉;杜卫冲;敦士军 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11329 北京龙双利达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 魏雪娇;毛威 |
| 地址： | 528437 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种数字化光刻系统和方法，该数字化光刻系统包括：基板，包括多个任务区域，其中每个任务区域用于放置一个或多个待曝光产品；光学引擎阵列，设置在该基板的上方；移动平台，固定在该数字化光刻系统的基座上，用于承载该基板并驱动该基板平移；引擎位置调整装置，用于驱动该光学引擎阵列中的光学引擎平移；控制系统，根据该多个任务区域的信息，控制该移动平台和该引擎位置调整装置，以使每个任务区域由该光学引擎阵列中的单个光学引擎进行曝光。本申请提供的数字化光刻系统，可以避免在曝光过程中产生光学Mura条痕，有效降低曝光过程的生产难度，同时降低光刻系统的设计成本和调试成本，提高该数字化光刻系统的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 数字化光 光学引擎 任务区域 基板 平移 调整装置 曝光过程 移动平台 引擎位置 光刻系统 控制系统 曝光产品 生产难度 驱动 条痕 申请 调试 承载 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种数字化光刻系统，其特征在于，包括：/n基板，包括多个任务区域，其中每个任务区域用于放置一个或多个待曝光产品，且任意一个待曝光产品只位于一个任务区域中；/n光学引擎阵列，设置在所述基板的上方，所述光学引擎阵列包括多个光学引擎；/n移动平台，固定在所述数字化光刻系统的基座上，用于承载所述基板并驱动所述基板平移；/n引擎位置调整装置，用于驱动所述光学引擎阵列中的光学引擎平移；/n控制系统，根据所述多个任务区域的信息，控制所述移动平台和所述引擎位置调整装置，以使所述光学引擎阵列中的每个光学引擎曝光对应的任务区域，其中，每个任务区域由所述光学引擎阵列中的单个光学引擎进行曝光；/n所述控制系统控制所述引擎位置调整装置调整所述光学引擎阵列中每个光学引擎的起始位置，使得所述光学引擎阵列中光学引擎之间的横向间距均为所述任务区域的长度的整数倍。/n
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