[发明专利]曝光方法在审
| 申请号： | 201810456509.5 | 申请日： | 2018-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN108931889A | 公开（公告）日： | 2018-12-04 |
| 发明（设计）人： | 有松研人 | 申请（专利权）人： | 株式会社东海理化电机制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够减少因对焦偏差产生的问题的曝光方法。曝光装置(1)的控制部(18)在对直线排列的无法测定对焦值的不可测定照射区域(27a)以及与不可测定照射区域(27a)邻接且能够测定对焦值的可测定照射区域(28)进行曝光的情况下，利用紧挨之前曝光的邻接的可测定照射区域(28)的对焦值对不可测定照射区域(27a)进行曝光，来对可测定照射区域(28)和不可测定照射区域(27a)交替地进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 照射区域 曝光 对焦 邻接 偏差产生 曝光装置 直线排列 紧挨 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，其中，在对直线排列的无法测定对焦值的不可测定照射区域以及与不可测定照射区域邻接且能够测定对焦值的可测定照射区域进行曝光的情况下，对不可测定照射区域利用紧挨之前曝光的邻接的可测定照射区域的对焦值进行曝光，来对可测定照射区域和不可测定照射区域交替地进行曝光。
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