[发明专利]具有黑色边界区域的光刻掩模及其制造方法

摘要

光刻掩模包括衬底、设置在衬底的第一侧上方的反射结构和设置在反射结构上方的图案化的吸收层。光刻掩模包括第一区域和在俯视图中围绕第一区域的第二区域。图案化的吸收层位于第一区域中。基本非反射材料位于第二区域中。通过以下方法形成光刻掩模：在衬底上方形成反射结构，在反射结构上方形成吸收层，限定光刻掩模的第一区域，以及限定光刻掩模的第二区域。第一区域的限定包括图案化吸收层。第二区域限定为在俯视图中围绕第一区域。第二区域的限定包括在第二区域中形成基本非反射材料。本发明的实施例还涉及具有黑色边界区域的光刻掩模及其制造方法。

主权项

1.一种光刻掩模，包括：衬底；反射结构，设置在所述衬底的第一侧上方；图案化的吸收层，设置在所述反射结构上方；其中，所述光刻掩模包括第一区域和在俯视图中围绕所述第一区域的第二区域；所述图案化的吸收层位于所述第一区域中；以及非反射材料位于所述第二区域中。