[发明专利]硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料在审
| 申请号： | 201810459443.5 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN108586788A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 赵晶;李明高 | 申请（专利权）人： | 安徽华米信息科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;C08L83/04 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料，该方法包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。本申请的技术方案通过控制紫外光照射到硅胶材料的表面，可以使附着在硅胶材料表面的脏污物质与活性氧以及臭氧发生化学反应，进而使硅胶材料的表面的化学分子具有规则的排列方式，由于化学分子的排列方式具有规则，使硅胶材料的表层结构更紧致，从而可提高硅胶表层的附着力，进而提高硅胶表层的爽滑度。 | ||
| 搜索关键词： | 硅胶材料 硅胶 排列方式 紫外光照射 光照参数 化学分子 紫外光 附着力 化学反应 表层结构 臭氧发生 光源发射 预设条件 脏污物质 活性氧 附着 滑度 光源 申请 发射 | ||
【主权项】：
1.一种硅胶材料的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽华米信息科技有限公司，未经安徽华米信息科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810459443.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
