[发明专利]高压元件及其制造方法有效
申请号: | 201810460667.8 | 申请日: | 2018-05-15 |
公开(公告)号: | CN110491941B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 黄宗义 | 申请(专利权)人: | 立锜科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李兰;孙志湧 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提出一种高压元件及其制造方法。高压元件包含:半导体层、绝缘结构、漂移氧化区、阱区、本体区、栅极、至少一子栅极、源极与漏极、以及导电连接结构。其中,漂移氧化区位于操作区中的漂移区上。子栅极形成于漂移氧化区上的操作区中,由俯视图观察,子栅极大致为沿着宽度方向而延伸的长方形,且子栅极与栅极平行排列。 | ||
搜索关键词: | 高压 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高压元件,包含:/n一半导体层,形成于一基板上,该半导体层于一垂直方向上,具有相对的一上表面与一下表面;/n一绝缘结构,形成于该上表面上并连接于该上表面,用以定义一操作区;/n一漂移氧化区,形成于该上表面上并连接于该上表面,且位于该操作区中的一漂移区上并连接于该漂移区;/n一阱区,具有一第一导电型,形成于该半导体层的该操作区中,且于该垂直方向上,该阱区位于上表面下并连接于该上表面;/n一本体区,具有一第二导电型,形成于该操作区的该阱区中,且于该垂直方向上,该本体区位于该上表面下并连接于该上表面;/n一栅极,形成于该半导体层的该上表面上的该操作区中,由俯视图观察,该栅极大致为沿着一宽度方向上而延伸的长方形,且于该垂直方向上,部分该本体区位于该栅极正下方并连接于该栅极,以提供该高压元件在一导通操作中的一反转电流通道;/n至少一子栅极,形成于该漂移氧化区上的该操作区中,由俯视图观察,该子栅极大致为沿着该宽度方向而延伸的长方形,且该子栅极与该栅极平行排列,且于该垂直方向上,该子栅极位于该漂移氧化区上且连接该漂移氧化区;/n一源极与一漏极,具有该第一导电型,于该垂直方向上,该源极与该漏极形成于该上表面下并连接于该上表面的该操作区中,且该源极与该漏极分别位于该栅极的外部下方的该本体区中与远离该本体区侧的该阱区中,且于一通道方向上,该漂移区位于该漏极与该本体区之间,靠近该上表面的该阱区中,用以作为该高压元件在该导通操作中的一漂移电流通道,且由俯视图观察,该子栅极介于该栅极与该漏极之间,且于该垂直方向上,该源极与该漏极位于该上表面下并连接于该上表面;以及/n一导电连接结构,用以由该栅极与该至少一子栅极上方,电连接该栅极与该至少一子栅极,且该导电连接结构为导体。/n
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