[发明专利]增强微波与等离子体耦合率的谐振腔及微波等离子体装置有效
申请号: | 201810463874.9 | 申请日: | 2018-05-15 |
公开(公告)号: | CN108538701B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 阮存军;刘静;戴军;孔德胤;李仁杰 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H01J49/10 | 分类号: | H01J49/10;H05H1/46 |
代理公司: | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 周新楣 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例提供了一种增强大功率微波与其激发产生的等离子体耦合率的谐振腔,包括:谐振腔壁、等离子体发生装置、支撑装置及微波电场调频装置;等离子体发生装置,与支撑装置连接;支撑装置,与等离子体发生装置连接;微波电场调频装置,包裹在所述支撑装置外部;谐振腔壁,用于产生激发等离子所需的强微波场,包裹等离子体发生装置、支撑装置及微波电场调频装置。本发明实施例还提供了一种高效率的微波等离子体装置,包括:微波传输装置及上述谐振腔;微波传输装置与上述谐振腔耦合一起,用于向上述谐振腔内传输大功率微波并激发等离子体。本发明可以获取反射损耗最小的大功率微波电场并激发产生等离子体。 | ||
搜索关键词: | 增强 微波 等离子体 耦合 谐振腔 装置 | ||
【主权项】:
1.一种增强微波与等离子体耦合率的谐振腔,其特征在于,包括:等离子体发生装置、支撑装置、微波电场调频装置及谐振腔壁;所述等离子体发生装置,与所述支撑装置连接,用于生成等离子体;所述支撑装置,与所述等离子体发生装置连接,用于支撑所述等离子体发生装置;所述微波电场调频装置,包裹在所述支撑装置外部,通过调节包裹所述支撑装置的比例来确定反射损耗最小的微波电场频率;所述谐振腔壁,包裹所述等离子体发生装置、支撑装置及微波电场调频装置,用于形成所述增强微波与等离子体耦合率的谐振腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810463874.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。