[发明专利]用于经改善的前驱物流的半导体处理腔室

摘要

公开了用于经改善的前驱物流的半导体处理腔室。示例性半导体处理系统可以包括处理腔室，并且可以包括与处理腔室耦接的远程等离子体单元。示例性系统还可以包括与远程等离子单元耦接的适配器。适配器可以包括第一端和与第一端相对的第二端。适配器可以在第一端处限定通向中心通道的开口，并且中心通道可以由第一横截表面面积来表征。适配器可以在第二端处限定从第二通道离开的出口，并且适配器可以在适配器内、在第一端与第二端之间限定中心通道与第二通道之间的过渡部。适配器可以限定过渡部与适配器的第二端之间的第三通道，并且第三通道可与中心通道和第二通道流体隔离。

主权项

1.一种半导体处理系统，所述半导体处理系统包括：处理腔室；远程等离子体单元，所述远程等离子体单元与所述处理腔室耦接；和适配器，所述适配器与所述远程等离子体单元耦接，其中所述适配器包括第一端和与所述第一端相对的第二端，其中所述适配器在所述第一端处限定通向中心通道的开口，其中所述中心通道由第一横截表面面积来表征，其中所述适配器在所述第二端处限定从第二通道离开的出口，其中所述适配器在所述适配器内、在所述第一端与所述第二端之间限定所述中心通道与所述第二通道之间的过渡部，其中所述适配器限定所述过渡部与所述适配器的所述第二端之间的第三通道，并且其中所述第三通道与所述适配器内的所述中心通道和所述第二通道流体隔离。