[发明专利]一种灰度掩模图形的分层提取方法在审
| 申请号： | 201810477723.9 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN108710262A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 胡超 | 申请（专利权）人： | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/32 | 分类号： | G03F1/32 |
| 代理公司： | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人： | 李浩 |
| 地址： | 214135 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及微纳光学领域，具体为一种灰度掩模图形的分层提取方法；包括如下步骤：步骤一：读取灰度掩模图片的灰度阶数并二进制化；步骤二：根据不同灰度阶数提取不同灰度阶数的二进文件；步骤三：定义每单元像素的大小1μm×1μm；步骤四：将不同灰度的二进制文件转成GDS图片格式，定义左下角像素在GDS格式中坐标为(1,1)。 | ||
| 搜索关键词： | 灰度掩模 灰度阶 分层 读取 二进制文件 单元像素 二进制化 图片格式 微纳光学 灰度 下角 像素 图片 | ||
【主权项】：
1.一种灰度掩模图形的分层提取方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一：读取灰度掩模图片的灰度阶数并二进制化；步骤二：根据不同灰度阶数提取不同灰度阶数的二进文件；步骤三：定义每单元像素的大小1μm×1μm；步骤四：将不同灰度的二进制文件转成GDS图片格式，定义左下角像素在GDS格式中坐标为(1,1)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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