[发明专利]一种光谱基线校正方法及系统有效

专利信息
申请号: 201810477731.3 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108680516B 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 崔方晓;李大成;李扬裕;王安静;吴军 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王戈
地址: 230000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种光谱基线校正方法及系统。所述光谱基线校正方法包括:获取测量光谱;对所述测量光谱进行形态学处理,得到光谱基线;根据所述测量光谱初始化截断光谱;判断所述光谱基线与所述截断光谱的模长是否大于模长阈值,若是,根据所述多段截断光谱确定线性结构体;根据所述线性结构体对所述测量光谱重新进行形态学处理,得到新的光谱基线;若否,确定所述光谱基线为校正后的光谱基线。采用本发明所提供的光谱基线校正方法及系统,能够提高校正光谱基线的校正精度。
搜索关键词: 一种 光谱 基线 校正 方法 系统
【主权项】:
1.一种光谱基线校正方法,其特征在于,包括:获取测量光谱;对所述测量光谱进行形态学处理,得到光谱基线;所述形态学处理包括开运算处理以及闭运算处理;根据所述测量光谱初始化截断光谱;所述截断光谱为所述测量光谱截取的一部分光谱;所述测量光谱具有多段截断光谱;所述截断光谱的光谱维度与所述光谱基线的光谱维度相同;判断所述光谱基线与所述截断光谱的模长是否大于模长阈值,得到第一判断结果;若所述第一判断结果表示为所述光谱基线与所述截断光谱的模长大于模长阈值,根据所述多段截断光谱确定线性结构体;所述线性结构体为关于所述测量光谱的二维矩阵;根据所述线性结构体对所述测量光谱重新进行形态学处理,得到新的光谱基线;若所述第一判断结果表示为所述光谱基线与所述截断光谱的模长不大于模长阈值,确定所述光谱基线为校正后的光谱基线。
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