[发明专利]一种超支化有机-无机嵌段光学透明加成型有机硅材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810480428.9 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108727595B 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 杨雄发;鲍好圆;来国桥;刘江玲;吴于飞;华西林;罗蒙贤;李泽;郝超伟 申请(专利权)人: 杭州师范大学
主分类号: C08G77/445 分类号: C08G77/445
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 王江成
地址: 311121 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及有机硅技术领域,为了解决有机硅高分子材料机械力学性能较差的问题,本发明提出了一种超支化有机‑无机嵌段光学透明加成型有机硅材料的制备方法,先将羟端基脂肪族超支化聚酯在氮气保护下与金属有机锂反应后,用正己烷清洗若干次,制备成超支化大分子引发剂;然后在促进剂存在下,将超支化大分子引发剂与环状有机硅单体开环聚合,并通过终止剂终止反应,得到超支化嵌段有机硅高分子,减压脱除溶剂、低分子和未参与聚合反应的单体;然后通过硅氢加成反应,得到超支化有机‑无机嵌段光学透明加成型有机硅材料。改善了有机硅高分子材料的机械力学性能和流动性能。
搜索关键词: 一种 超支 有机 无机 光学 透明 成型 有机硅 材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种超支化有机‑无机嵌段光学透明加成型有机硅材料的制备方法,其特征在于,所述的制备方法为以下步骤:(1)将羟端基脂肪族超支化聚酯在氮气保护下与金属有机锂反应后,用正己烷清洗若干次,制备成超支化大分子引发剂;(2)在促进剂存在下,将超支化大分子引发剂与环状有机硅单体开环聚合,并通过终止剂终止反应,得到超支化嵌段有机硅高分子,减压脱除溶剂、低分子和未参与聚合反应的单体;然后通过硅氢加成反应,得到超支化有机‑无机嵌段光学透明加成型有机硅材料。
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