[发明专利]切割晶圆的方法及半导体芯片有效
申请号: | 201810482055.9 | 申请日: | 2015-12-15 |
公开(公告)号: | CN108682648B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | M·布伦鲍尔;B·德鲁默;K·卡斯帕;G·马克 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/78 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 德国诺伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 各种实施例涉及切割晶圆的方法及半导体芯片。一种切割晶圆的方法可以包括:在晶圆中形成多个有源区,每个有源区包括至少一个电子部件,有源区通过一定高度从晶圆的第一表面延伸到晶圆中并且被分离区域分离,分离区域没有金属;在至少一个分离区域中通过从晶圆的第一表面进行等离子体刻蚀而在晶圆中形成至少一个沟槽。该至少一个沟槽比多个有源区更远地延伸到晶圆中。方法可以进一步包括处理在分离区域中的晶圆的剩余部分以将晶圆分离成单独的芯片。 | ||
搜索关键词: | 切割 方法 半导体 芯片 | ||
【主权项】:
1.一种切割晶圆的方法,所述方法包括:在所述晶圆中形成多个有源区,每个有源区包括至少一个电子部件,所述有源区通过一定高度从所述晶圆的第一表面延伸到所述晶圆中并且被分离区域分离;在至少一个分离区域中通过从所述晶圆的所述第一表面进行等离子体刻蚀而在所述晶圆中形成至少一个沟槽,其中所述至少一个沟槽比所述多个有源区更远地延伸到所述晶圆中;以及处理在所述至少一个分离区域中的所述晶圆的剩余部分以将所述晶圆分离成单独的芯片,其中处理所述晶圆的所述剩余部分包括激光烧蚀、激光隐形切割和锯切中的至少一种。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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