[发明专利]切割晶圆的方法及半导体芯片有效

专利信息
申请号: 201810482055.9 申请日: 2015-12-15
公开(公告)号: CN108682648B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: M·布伦鲍尔;B·德鲁默;K·卡斯帕;G·马克 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/78
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 德国诺伊*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 各种实施例涉及切割晶圆的方法及半导体芯片。一种切割晶圆的方法可以包括:在晶圆中形成多个有源区,每个有源区包括至少一个电子部件,有源区通过一定高度从晶圆的第一表面延伸到晶圆中并且被分离区域分离,分离区域没有金属;在至少一个分离区域中通过从晶圆的第一表面进行等离子体刻蚀而在晶圆中形成至少一个沟槽。该至少一个沟槽比多个有源区更远地延伸到晶圆中。方法可以进一步包括处理在分离区域中的晶圆的剩余部分以将晶圆分离成单独的芯片。
搜索关键词: 切割 方法 半导体 芯片
【主权项】:
1.一种切割晶圆的方法,所述方法包括:在所述晶圆中形成多个有源区,每个有源区包括至少一个电子部件,所述有源区通过一定高度从所述晶圆的第一表面延伸到所述晶圆中并且被分离区域分离;在至少一个分离区域中通过从所述晶圆的所述第一表面进行等离子体刻蚀而在所述晶圆中形成至少一个沟槽,其中所述至少一个沟槽比所述多个有源区更远地延伸到所述晶圆中;以及处理在所述至少一个分离区域中的所述晶圆的剩余部分以将所述晶圆分离成单独的芯片,其中处理所述晶圆的所述剩余部分包括激光烧蚀、激光隐形切割和锯切中的至少一种。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810482055.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top