[发明专利]一种阴离子调控的8-羟基喹啉金属配合物四聚晶体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810490392.2 申请日: 2017-02-28
公开(公告)号: CN108530471A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 霍延平;田亚娟;杨百兴;蔡宁;李宗植;李俊同 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C07F3/08 分类号: C07F3/08;C07F3/06;C09K11/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张春水;唐京桥
地址: 510060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请属于金属配合物领域,具体涉及一种阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体及其制备方法。本发明所提供的阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体,其化学结构如式(I)所示,具有较高的发光强度、良好的热稳定性以及较长的荧光寿命,在有机发光材料的制备上存在很大的应用潜能,也可用于研究不同阴离子对其配位构型以及发光性能的影响。此外,本发明所提供的金属配合物四聚晶体原料成本低廉,来源广泛,设备简单,工艺优化,可实现大规模的生产,具有广阔的发展前景。
搜索关键词: 阴离子 四聚 金属配合物 式( I ) 制备 羟基喹啉金属 配合物 调控 有机发光材料 发光性能 工艺优化 晶体原料 热稳定性 应用潜能 荧光寿命 构型 可用 配位 申请 生产 研究
【主权项】:
1.一种阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体,其结构如通式Ⅰ所示:其中,M选自Cd;R选自AcO、I或NO3。
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