[发明专利]一种阴离子调控的8-羟基喹啉金属配合物四聚晶体及其制备方法在审
申请号: | 201810490392.2 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN108530471A | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
发明(设计)人: | 霍延平;田亚娟;杨百兴;蔡宁;李宗植;李俊同 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C07F3/08 | 分类号: | C07F3/08;C07F3/06;C09K11/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;唐京桥 |
地址: | 510060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请属于金属配合物领域,具体涉及一种阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体及其制备方法。本发明所提供的阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体,其化学结构如式(I)所示,具有较高的发光强度、良好的热稳定性以及较长的荧光寿命,在有机发光材料的制备上存在很大的应用潜能,也可用于研究不同阴离子对其配位构型以及发光性能的影响。此外,本发明所提供的金属配合物四聚晶体原料成本低廉,来源广泛,设备简单,工艺优化,可实现大规模的生产,具有广阔的发展前景。 | ||
搜索关键词: | 阴离子 四聚 金属配合物 式( I ) 制备 羟基喹啉金属 配合物 调控 有机发光材料 发光性能 工艺优化 晶体原料 热稳定性 应用潜能 荧光寿命 构型 可用 配位 申请 生产 研究 | ||
【主权项】:
1.一种阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体,其结构如通式Ⅰ所示:
其中,M选自Cd;R选自AcO、I或NO3。
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