[发明专利]包括纳米线的器件与其制作方法

摘要

本申请提供了一种包括纳米线的器件与其制作方法。该制作方法包括：步骤S1，提供具有凹槽的基底；步骤S2，在凹槽中填充绝缘材料，形成绝缘部，凹槽与绝缘部一一对应；步骤S3，刻蚀去除绝缘部两侧的基底的部分，剩余的且位于绝缘部两侧壁上的基底形成多个堆叠的纳米线，剩余的除纳米线之外的基底形成第一基底本体，绝缘部位于第一基底本体的表面上。上述的制作方法形成的纳米线的晶格比较完美，器件的性能较好；并且，该制作方法中，纳米线附着在绝缘部上，即绝缘部为纳米线提供了支撑，使得该纳米线可以做得很长且很细，不会发生断裂问题，且可以实现纳米线的高密度。

主权项

1.一种包括纳米线的器件的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：步骤S1，提供具有凹槽的基底；步骤S2，在所述凹槽中填充绝缘材料，形成绝缘部，所述凹槽与所述绝缘部一一对应；以及步骤S3，刻蚀去除所述绝缘部两侧的所述基底的部分，剩余的且位于所述绝缘部两侧壁上的所述基底形成多个堆叠的纳米线，剩余的除所述纳米线之外的所述基底形成第一基底本体，所述绝缘部位于上述第一基底本体的表面上。