[发明专利]高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法在审
| 申请号： | 201810509361.7 | 申请日： | 2018-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN108707870A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 刚爽;杨晔;朱永明 | 申请（专利权）人： | 宁波森利电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C4/067;C23C4/134 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 文芳 |
| 地址： | 315171 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，包括制备喷涂粉末、预处理靶材背管、对靶材背管喷涂打底层、用等离子喷涂工艺在靶材背管上制备硅铝靶材等步骤。其中，制备喷涂粉末的方法为：以质量百分比计，将90％‑92％的硅粉与8％‑10％的铝粉混合后，在V型混粉机中均匀混粉4‑6小时，然后在90—110°的烘干箱中烘干4‑6小时。本发明的优点是：工艺简单、所制备的靶材品质较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 靶材 背管 喷涂粉末 旋转靶材 硅铝 等离子喷涂工艺 预处理 质量百分比 制备硅铝 打底层 烘干箱 烘干 对靶 硅粉 混粉 铝粉 喷涂 | ||
【主权项】：
1.高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，包括以下步骤：(1)制备喷涂粉末；(2)预处理靶材背管；(3)对靶材背管喷涂打底层；(4)用等离子喷涂工艺在靶材背管上制备硅铝靶材。
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