[发明专利]一种电子光学系统有效
| 申请号： | 201810517125.X | 申请日： | 2017-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109470732B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 乔山 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G01N24/00 | 分类号： | G01N24/00 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 | 代理人： | 宋缨 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电子光学系统，所述电子光学系统至少包括：磁场和非轴对称透镜群，其中，所述磁场用于分离初始入射电子和出射电子的运动轨道并实现电子运动方向的偏转，使得所述初始入射电子偏转第一设定角度，并使得所述出射电子偏转第二预定角度；所述非轴对称透镜群用于补偿磁场电子光学特性在垂直及平行磁场方向的非对称性，减小像差，并与磁场相配合，使电子束在像平面上在沿垂直磁场方向和平行磁场的两个方向上同时成像。同时，非轴对称电透镜可以实现电子束偏转功能，使电子光学系统的调试更为简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子光学 系统 | ||
【主权项】：
1.一种电子光学系统，其特征在于，所述电子光学系统至少包括：磁场和非轴对称透镜群，其中，所述磁场用于分离初始入射电子和出射电子的运动轨道并实现电子运动方向的偏转，使得所述初始入射电子偏转第一设定角度，并使得所述出射电子偏转第二预定角度；所述非轴对称透镜群用于补偿磁场电子光学特性在垂直及平行磁场方向的非对称性，减小像差，并与磁场相配合使电子束在像平面上在沿垂直磁场方向和平行磁场的两个方向上同时成像。
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