[发明专利]一种受激辐射损耗显微镜系统及其控制方法

摘要

本发明提供了一种受激辐射损耗显微镜系统及其控制方法，其中，第一纳秒脉冲激发光光源所述系统包括第一纳秒脉冲激发光光源、均匀空间光束调制部件、第二纳秒脉冲消激发光光源、网格状空间光束调制部件、二向色镜组件、显微镜镜体、微纳米平移台、镜头组件、图像采集相机、同步器以及计算机。本申请提供的受激辐射损耗显微镜系统及其控制方法，能够在提高稳定性和成像速度的同时，减少系统的成本。

主权项

1.一种受激辐射损耗显微镜系统，其特征在于，所述系统包括第一纳秒脉冲激发光光源、均匀空间光束调制部件、第二纳秒脉冲消激发光光源、网格状空间光束调制部件、二向色镜组件、显微镜镜体、微纳米平移台、镜头组件、图像采集相机、同步器以及计算机，其中：所述第一纳秒脉冲激发光光源发出的激发光，经所述均匀空间光束调制部件产生均匀宽场的激发光光束；所述第二纳秒脉冲消激发光光源发出的消激发光，经所述网格状空间光束调制部件生成网格状均匀的消激发光光束；所述激发光和所述消激发光通过所述二向色镜组件进行合束，形成平行且同轴的两束激光；所述两束激光被导入基于倒置荧光显微镜开发的所述显微镜镜体内，并对样本进行照射并产生点阵状分布的荧光光斑，其中，通过所述微纳米平移台来对照射点进行控制；所述显微镜镜体导出的荧光信号经过所述镜头组件由所述图像采集相机收集，其中，所述图像采集相机的曝光过程和时间由所述同步器控制，并与所述激发光和所述消激发光进行同步；所述图像采集相机产生的图像被输出到所述计算机进行处理。