[发明专利]基板清洗装置、显影机及基板清洗方法在审
| 申请号： | 201810523955.3 | 申请日： | 2018-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN108787672A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 徐毕龙 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/04 | 分类号： | B08B11/04;B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种基板清洗装置、显影机及基板清洗方法，该基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头，基板清洗装置还包括一驱动装置，驱动装置与输出管道连接，用于驱动输出管道按照设定频率沿设定方向移动，通过此种方式增加玻璃基板表面水膜流动性及水膜厚度均一性，减少由于水膜不均一造成的品质不良。 | ||
| 搜索关键词： | 基板清洗装置 输出管道 水膜 基板清洗 驱动装置 显影机 玻璃基板表面 喷头 厚度均一性 方向移动 清洗基板 清洗液 均一 驱动 申请 | ||
【主权项】：
1.一种基板清洗装置，其特征在于，所述基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且所述输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头；所述基板清洗装置还包括一驱动装置，所述驱动装置与所述输出管道连接，用于驱动所述输出管道按照设定频率沿设定方向移动。
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