[发明专利]溅射装置有效
| 申请号： | 201810529504.0 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN108977780B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 藤井佳词;中村真也 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种溅射装置，其能以均匀性更好的基板面内薄膜厚度分布形成规定的薄膜。所述溅射装置(SM)具有：筒状的真空室(1)，设置有溅射用的靶(2)；台架(4)，设置在真空室内与靶相对的位置上并可设置成膜对象物；以及挡板(5)，设置为距离真空室的内壁面(1a)留有间隙并围绕靶和台架之间的成膜空间，在真空室内设置排气空间部(11)，该排气空间部向与连接靶和台架的延长线(Cl)正交的方向局部突出，用真空泵(Vp)经由开设在排气空间部上的排气口(11a)对包括成膜空间(1b)的真空室内进行真空排气，设置盖板(7)，该盖板留出间隙地覆盖与排气空间部的排放气体流入口(11b)相对的挡板的外表面部分。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种溅射装置，其特征在于，具有：筒状的真空室，设置有溅射用的靶；台架，设置在真空室内与靶相对的位置上并能够设置成膜对象物；以及挡板，设置为距离真空室的内壁面留有间隙并围绕靶和台架之间的成膜空间；在真空室内设置排气空间部，所述排气空间部向与连接靶和台架的延长线正交的方向局部突出，用真空泵经由开设在排气空间部上的排气口对包括成膜空间的真空室内进行真空排气；设置有盖板，所述盖板留出间隙地覆盖与排气空间部的排放气体流入口相对的挡板的外表面部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科，未经株式会社爱发科许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810529504.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：溅射装置
- 下一篇：一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法
- 同类专利
- 专利分类
