[发明专利]离子注入装置、离子束被照射体及离子注入方法有效

专利信息
申请号: 201810529973.2 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108987226B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 松下浩 申请(专利权)人: 住友重机械离子科技株式会社
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 夏斌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供一种离子注入装置,应对由于使用具有比较高的能量的离子束而有可能产生的核反应。离子注入装置(100)具备:离子源,构成为生成包含非放射性核种的离子的离子束;射束线,构成为支承离子束被照射体;控制装置(50),构成为运算通过入射于离子束被照射体(70)的非放射性核种的离子与作为之前进行的离子束照射的结果而积蓄在离子束被照射体(70)的非放射性核种的核反应而产生的放射线的推断线量。
搜索关键词: 离子 注入 装置 离子束 照射 方法
【主权项】:
1.一种离子注入装置,其特征在于,具备:离子源,构成为生成包含非放射性核种的离子的离子束;射束线,构成为支承离子束被照射体;及控制装置,构成为运算通过入射于所述离子束被照射体的所述非放射性核种的离子与作为之前进行的离子束照射的结果而积蓄在所述离子束被照射体的所述非放射性核种的核反应而产生的放射线的推断线量。
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