[发明专利]离子束照射装置有效

专利信息
申请号: 201810532390.5 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN109427526B 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 土肥正二郎;小野田正敏;高桥元喜 申请(专利权)人: 日新离子机器株式会社
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/16;H01J37/244
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 周善来;李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。该离子束照射装置(1)具有固定在离子束照射位置的束电流测量器(P),束电流测量器(P)包括测量部(C)和配置在测量部(C)周围的防护罩(S),防护罩(S)包括:前面防护罩(FS),具有使离子束(3)的一部分通向测量部(C)的开口(H);后面防护罩(BS),配置在与前面防护罩(FS)相对的位置;侧面防护罩(SS),配置在除了前面防护罩(FS)和后面防护罩(BS)以外的部位,在离子束照射装置(1)的真空室(8)的壁面上具有能够开闭的门(D),门(D)兼用作后面防护罩(BS)。
搜索关键词: 离子束 照射 装置
【主权项】:
1.一种离子束照射装置,其特征在于,所述离子束照射装置具有固定在离子束照射位置的束电流测量器,所述束电流测量器包括:测量部;以及防护罩,配置在所述测量部的周围,所述防护罩包括:前面防护罩,具有使离子束的一部分通向所述测量部的开口;后面防护罩,配置在与所述前面防护罩相对的位置;以及侧面防护罩,配置在所述前面防护罩和所述后面防护罩以外的部位,在离子束照射装置的真空室壁面上具有能够开闭的门,所述门兼用作所述后面防护罩。
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