[发明专利]一种光刻机用晶圆片匀胶装置有效
申请号: | 201810534084.5 | 申请日: | 2018-05-29 |
公开(公告)号: | CN108646517B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 侯玉闯;薛鹏 | 申请(专利权)人: | 江西维易尔半导体设备有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 石红丽 |
地址: | 334000 江西省上*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明涉及晶圆片光刻技术领域,尤其涉及一种光刻机用晶圆片匀胶装置,所述匀胶装置包括固定框、基座、水平调节装置、固定支架、旋转装置、真空吸盘、真空发生器、可调节弹簧和感应装置;所述基座位于固定框上部;所述水平调节装置固定在固定框内;所述固定支架安装在基座上方;所述旋转装置安装在固定支架上;所属真空吸盘位于旋转装置上方;所述真空发生器位于真空吸盘右下方,真空发生器与真空吸盘相连通;所述可调节弹簧数量为三,可调节弹簧之间呈120°分布,可调节弹簧位于基座与固定框之间;所述感应装置位于固定框上方;本装置可以有效保证晶圆片水平固定在真空吸盘上,从而保证晶圆片表面涂覆胶的厚度均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 机用晶圆片匀胶 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机用晶圆片匀胶装置,其特征在于:所述匀胶装置包括固定框(1)、基座(2)、水平调节装置(3)、固定支架(4)、旋转装置(5)、真空吸盘(6)、真空发生器(7)、可调节弹簧(8)和感应装置(9);所述基座(2)位于固定框(1)上部,基座(2)用于安装固定支架(4);所述水平调节装置(3)固定在固定框(1)内,水平调节装置(3)用于调节基座(2)的水平;所述固定支架(4)安装在基座(2)上方,固定支架(4)用于安装旋转装置(5);所述旋转装置(5)安装在固定支架(4)上,旋转装置(5)用于带动真空吸盘(6)旋转;所述真空吸盘(6)位于旋转装置(5)上方,真空吸盘(6)用于固定晶圆;所述真空发生器(7)位于真空吸盘(6)右下方,真空发生器(7)与真空吸盘(6)相连通,真空发生器(7)用于为真空吸盘(6)提供真空条件;所述可调节弹簧(8)数量为三,可调节弹簧(8)之间呈120°分布,可调节弹簧(8)位于基座(2)与固定框(1)之间,可调节弹簧(8)上端与基座(2)底端相连,可调节弹簧(8)下端与固定框(1)顶部相连,可调节弹簧(8)用于固定基座(2),同时可调节弹簧(8)还用于调节基座(2)的水平;所述感应装置(9)位于固定框(1)上方,感应装置(9)包括固定杆(91)和感应器(92),感应装置(9)用于判断基座(2)是否水平;所述固定杆(91)数量为二,固定杆(91)左右对称放置在基座(2)两侧,固定杆(91)用于固定感应器(92);所述感应器(92)固定在固定杆(91)上,感应器(92)用于判断基座(2)是否水平。
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