[发明专利]剥离层形成用组合物有效

专利信息
申请号: 201810542076.5 申请日: 2015-03-30
公开(公告)号: CN108690495B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 江原和也;小出泰之;进藤和也 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: C09D179/08 分类号: C09D179/08;C09D5/20;C08G73/10
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;李国卿
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及剥离层形成用组合物。通过本发明,可提供一种用于形成下述剥离层的组合物,所述剥离层可维持与设置该剥离层的玻璃基板的密合性从而不在与玻璃基板之间的界面处产生剥离,同时也可实现将形成于剥离层上部的层或层组从该剥离层简易地剥离。本发明提供下述剥离层形成用组合物,所述剥离层形成用组合物含有聚酰胺酸和有机溶剂,所述聚酰胺酸包含50摩尔%以上的式(1)所示的单体单元,且重均分子量为10,000以上。此处,式(1)中,X1表示四价的有机基团,Y1表示下述式(P)所示的二价基团。
搜索关键词: 剥离 形成 组合
【主权项】:
1.剥离层形成用组合物,其含有聚酰胺酸和有机溶剂,所述聚酰胺酸包含50摩尔%以上的下述式(1)所示的单体单元,所述聚酰胺酸的重均分子量为10,000以上,所述聚酰胺酸还包含下述式(2)所示的单体单元,式(1)中,X1表示四价的有机基团,Y1表示下述式(P)所示的二价基团;式(P)中,R表示F、Cl、碳原子数1~3的烷基、或苯基,m表示0~4的整数,并且,r表示1~4的整数,式(2)中,X1如上文中所定义,Y2表示下述式(P4)所示的基团,式(P4)中,R7和R8可以相同也可以不同,表示F、Cl、碳原子数1~3的烷基、或苯基,R’表示氢原子、碳原子数1~3的烷基、或苯基,l表示0~4的整数,并且,m如上文中所定义。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社,未经日产化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810542076.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top