[发明专利]改善异形屏面板画质的设计方法及结构在审

专利信息
申请号: 201810546896.1 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN108732826A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 唐岳军 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1335;G09F9/33
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂;刘巍
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种改善异形屏面板画质的设计方法及结构。该改善异形屏面板画质的设计方法包括:步骤10、沿面板实际显示边缘设置初始遮光层;步骤20、对于未被初始遮光层完全遮挡的像素,如果该像素包含至少一个完全被初始遮光层遮挡的子像素,该像素设置为完全不显示或者增加遮光层完全遮挡该像素;步骤30、对于未被初始遮光层完全遮挡的像素,如果该像素的全部子像素都未被初始遮光层完全遮挡,该像素设置为全部子像素在相同驱动条件下的亮度比值等于或接近于未被初始遮光层遮挡的正常像素的全部子像素在相同驱动条件下的亮度比值。本发明改善异形屏面板画质的设计方法及结构能够减小或者消除开口/开孔&异形位置的锯齿感;消除开口/开孔&异形位置的色差。
搜索关键词: 遮光层 异形 遮挡 像素 屏面板 子像素 画质 驱动条件 像素设置 开孔 开口 锯齿 色差 边缘设置 正常像素 减小
【主权项】:
1.一种改善异形屏面板画质的设计方法,其特征在于,包括:步骤10、沿面板实际显示边缘设置初始遮光层;步骤20、对于未被初始遮光层完全遮挡的像素,如果该像素包含至少一个完全被初始遮光层遮挡的子像素,该像素设置为完全不显示或者增加遮光层完全遮挡该像素;步骤30、对于未被初始遮光层完全遮挡的像素,如果该像素的全部子像素都未被初始遮光层完全遮挡,该像素设置为全部子像素在相同驱动条件下的亮度比值等于或接近于未被初始遮光层遮挡的正常像素的全部子像素在相同驱动条件下的亮度比值。
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