[发明专利]一种照明系统、曝光系统及光刻设备有效
| 申请号： | 201810550300.5 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110554571B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 尉佩;田毅强;徐建旭 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种照明系统、曝光系统及光刻设备，其中，照明系统包括：光源，位于光源出光侧的光束调整模块以及设置在光源与光束调整模块之间的偏振态调节模块，光束调整模块包括锥镜组，锥镜组上镀有光学膜层，光学膜层对s光和p光的透过率不同；偏振态调节模块包括波片，波片与垂直照明光束光轴的平面具有第一夹角，用于将照明光束的偏振态由线偏振改变为部分偏振，使所述光瞳在水平和竖直方向均具有能量分布，从而改变所述光瞳的椭圆度。本发明实施例提供的照明系统、曝光系统及光刻设备，通过调节波片与垂直照明光束光轴的平面的夹角实现对光瞳椭圆度进行调节，提供了一种结构简单、成本低廉的光瞳椭圆度调节方案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 照明 系统 曝光 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种照明系统，其特征在于，包括：/n光源，用于输出线偏振的照明光束；/n光束调整模块，位于所述光源的出光侧，用于接收所述照明光束并形成具有特定形状的光瞳；/n所述光束调整模块包括锥镜组，所述锥镜组上镀有光学膜层，所述光学膜层对s光和p光的透过率不同；/n所述光源与所述光束调整模块之间还设置有偏振态调节模块，所述偏振态调节模块包括波片，所述波片与垂直所述照明光束光轴的平面具有第一夹角，用于将照明光束的偏振态由线偏振改变为部分偏振，使所述光瞳在水平和竖直方向均具有能量分布，从而改变所述光瞳的椭圆度。/n
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