[发明专利]添加亚分辨率辅助图形的方法及该方法的应用有效
申请号: | 201810552404.X | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108828896B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 左晔华;韦亚一;刘艳松;董立松 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 韩建伟;谢湘宁 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种添加亚分辨率辅助图形的方法及该方法的应用。该方法包括以下步骤:S1,从原始版图中截取具有周期结构的图形,得到待修正版图;S2,将待修正版图通过反向光刻技术进行修正,得到修正后版图,修正后版图包括符合成像要求的主图形和辅助图形;S3,将主图形和辅助图形分离,并将辅助图形加入原始版图中进行基于模型的光学邻近修正。上述方法改变了在光学邻近修正工作中添加亚分辨率辅助图形的方式和使用的软件工具,可以有效缩短周期版图添加亚分辨率辅助图形的时间周期,不需要设计专门的测试掩模和经过多次图形摆放的测算,也不需要进行多次曝光测试,具有低成本和节约时间的优点。 | ||
搜索关键词: | 添加 分辨率 辅助 图形 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种添加亚分辨率辅助图形的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,从原始版图中截取具有周期结构的图形,得到待修正版图;S2,将所述待修正版图通过反向光刻技术进行修正,得到修正后版图,所述修正后版图包括符合成像要求的主图形和辅助图形;S3,将所述主图形和所述辅助图形分离,并将所述辅助图形加入所述原始版图中进行基于模型的光学邻近修正。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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