[发明专利]台系统和光刻设备在审
| 申请号： | 201810554117.2 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN108919606A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。 | ||
| 搜索关键词： | 驱动系统 传感器移动 可移动主体 偏转器系统 支撑件 光刻设备 扰动 光学传感器 偏转区域 传感器 台系统 反射 移动 | ||
【主权项】：
1.一种台系统，包括：基座框架(228)，框架(44)，隔离器，衍射光栅(26)，主体(20)，包括用于保持衬底(W)的衬底台(WT)，其中所述主体(20)具有其上布置有所述衬底(W)的第一侧面，其中所述主体(20)具有与所述第一侧面相反且其上布置有所述衍射光栅(26)的第二侧面，其中所述基座框架(228)通过所述隔离器支撑所述框架(44)，其中所述框架(44)被布置成支撑用于在所述衬底(W)上执行测量的测量仪器。
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