[发明专利]一种制备Zr-Al-O三元非晶氧化层的方法有效
| 申请号： | 201810555517.5 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN108754403B | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 王祖敏;胡章平;徐艺菲;陈媛媛;刘永长;黄远 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C23C8/12 | 分类号： | C23C8/12 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 李素兰 |
| 地址： | 300350 天津市津南区海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备Zr‑Al‑O三元非晶氧化层的方法，将采用真空熔炼技术制备出的单相ZrAl2合金块体，对表面进行打磨和抛光，使样品表面光亮平整无划痕，之后超声清洗以除油去污，使样品表面无污渍，干燥待用；将干燥后的样品放入真空密闭环境并通入纯氧，使样品在恒压密闭条件下放入恒温的加热炉中进行氧化，然后取出样品并进行冷却。恒温条件的温度区间为550～750℃。氧化时间的区间为1～24h。氧化后的ZrAl2二元合金表面形成0.8±0.4μm～4.5±0.5μm厚的非晶氧化层，且氧化层无裂纹等缺陷，极大提高了该合金的表面性能，为其在核工业、航空航天等领域的应用提供了技术支持。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化层 非晶 制备 样品表面 加热炉 纯氧 样品放入真空 表面形成 表面性能 超声清洗 二元合金 航空航天 合金块体 恒温条件 技术支持 密闭环境 密闭条件 温度区间 应用提供 真空熔炼 污渍 抛光 核工业 除油 恒压 划痕 去污 打磨 合金 冷却 平整 取出 下放 | ||
【主权项】：
1.一种制备Zr‑Al‑O三元非晶氧化层的方法，其特征是，包括以下步骤；(1)将采用真空熔炼技术制备出的单相ZrAl2合金块体，对表面进行打磨和抛光，使样品表面光亮平整无划痕，之后超声清洗以除油去污，使样品表面无污渍，干燥；(2)将干燥后的样品放入真空密闭环境并通入纯氧，使样品在恒压密闭条件下放入恒温的加热炉中进行氧化，然后取出样品并进行冷却；所述步骤(2)中的为了保持恒压环境，根据所选择氧化的温度所通入的氧气气压遵循：![]()
其中气压的单位为：Pa,氧化温度的单位为：K；所述步骤(2)中的恒温条件的温度区间选择为：550℃～750℃；氧化时间的区间选择为：1h～24h。
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