[发明专利]投影系统的梯形校正方法及设备在审
申请号: | 201810556347.2 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108924521A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 李通 | 申请(专利权)人: | 晨星半导体股份有限公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31;G06T5/00 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本申请公开了一种投影系统的梯形校正方法及设备,该方法包括:接收对投影系统所投射的影像进行梯形校正的指令;分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射;根据所述调整后的所述纹理映射区域,对投影系统所投射的影像进行梯形校正,并通过所述投影系统输出。通过上述方式,本申请能够提高梯形校正的效果。 | ||
搜索关键词: | 投影系统 纹理映射 梯形校正 投射 影像 区域数据 纹理空间 指令 预设规则 申请 输出 分析 | ||
【主权项】:
1.一种投影系统的梯形校正方法,其特征在于,所述方法包括:接收对投影系统所投射的影像进行梯形校正的指令;分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射;以及根据调整后的纹理映射区域,将纹理映射结果通过投影系统输出。
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