[发明专利]投影系统的梯形校正方法及设备在审

专利信息
申请号: 201810556347.2 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN108924521A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 李通 申请(专利权)人: 晨星半导体股份有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;G06T5/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本申请公开了一种投影系统的梯形校正方法及设备,该方法包括:接收对投影系统所投射的影像进行梯形校正的指令;分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射;根据所述调整后的所述纹理映射区域,对投影系统所投射的影像进行梯形校正,并通过所述投影系统输出。通过上述方式,本申请能够提高梯形校正的效果。
搜索关键词: 投影系统 纹理映射 梯形校正 投射 影像 区域数据 纹理空间 指令 预设规则 申请 输出 分析
【主权项】:
1.一种投影系统的梯形校正方法,其特征在于,所述方法包括:接收对投影系统所投射的影像进行梯形校正的指令;分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射;以及根据调整后的纹理映射区域,将纹理映射结果通过投影系统输出。
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