[发明专利]等离子体处理装置和静电吸附方法有效
| 申请号： | 201810558220.4 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN108987233B | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 松山昇一郎;田丸直树;佐佐木康晴 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置、静电吸附方法和静电吸附程序，能够抑制聚焦环的吸附力的降低。在静电吸盘(25)的外周部(25b)载置聚焦环(30)，在内部以与聚焦环(30)相对地设置有电极板(29)。直流电源(28)在等离子体处理的期间中，对电极板(29)周期性地施加不同极性的电压，或者阶段性地施加绝对值大的电压。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 静电 吸附 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：载置聚焦环的载置台，在所述载置台的内部以与所述聚焦环相对的方式设置有电极；和电压施加部，在等离子体处理的期间中，对所述电极周期性地施加不同极性的电压，或者阶段性地施加绝对值大的电压。
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