[发明专利]基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法有效
| 申请号： | 201810561408.4 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN108732660B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 王焕焕;徐金国;费跃 | 申请（专利权）人： | 常州元晶电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B3/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于传感器领域，具体是一种基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法。一种基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法，它包括如下步骤，利用菲涅尔衍射原理形成衍射图像、制作衍射屏、制作接收屏的步骤、曝光形成光刻胶图形、蚀刻si圆片的步骤、清洁的步骤。本发明通过控制衍射成像间距，采用传统光刻机直接对需要形成菲涅尔透镜阵列的晶圆表面进行衍射曝光，形成菲涅尔波带片图样，再通过MEMS工艺手段对显影后的晶圆进行微机械加工，最终在晶圆表面形成具有指定焦距的菲涅尔透镜，整体工艺简单高效易控，大大降低了传统硅透镜的各种打磨工序所消耗的工艺成本和生产时间，成像效率得以提升。 | ||
| 搜索关键词： | 菲涅尔透镜阵列 制作 晶圆表面 蚀刻 菲涅尔波带片 传感器领域 菲涅尔透镜 光刻胶图形 微机械加工 成像效率 工艺成本 衍射成像 衍射曝光 衍射图像 整体工艺 焦距 菲涅尔 光刻机 硅透镜 接收屏 衍射屏 晶圆 图样 显影 衍射 打磨 消耗 曝光 清洁 生产 | ||
【主权项】：
1.基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法，其特征在于：它包括如下步骤，a、利用菲涅尔衍射原理形成衍射图像的步骤；b、制作衍射屏的步骤：在光刻版或金属板上设置若干透光的小孔阵列图形，小孔半径为L0并设置在透光石英板的上表面形成衍射屏；c、制作接收屏的步骤：在硅圆片作为衬底的表面涂覆正性感光光刻胶形成接受屏，接受屏与衍射屏的距离为z；d、曝光形成光刻胶图形的步骤：通过曝光的方式，使光从小孔阵列穿过并透过透光石英板后，在光刻胶上形成高低不平的图形；e、蚀刻si圆片的步骤：利用Si的RIE刻蚀机台刻蚀Si圆片，把光刻胶的图形形状复制到Si上面；f、清洁的步骤：清除剩余的光刻胶得到菲涅尔透镜阵列。
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