[发明专利]一种基于铝碲合金的存储器双向选通管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810565647.7 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN108735774B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 冯洁;高天 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基于铝碲合金的存储器双向选通管及其制备方法,该选通管包括:衬底(1);在衬底(1)上方形成布线沟槽,并沉积扩散阻挡层(3),扩散阻挡层(3)覆盖全部布线沟槽表面,钨布线下电极(2)设置在布线沟道中,与扩散阻挡层(3)接触;绝缘层(4),设置在钨布线下电极(2)暴露的表面上,且与钨布线下电极(2)相接触,绝缘层(4)内设置有两个钨栓塞(5),并且两个钨栓塞的侧壁被扩散阻挡层(3)覆盖,其中一个钨栓塞(5)利用阈值转变层(6)覆盖且与布线下电极(2)相接触,另一个钨栓塞(5)用惰性金属材料覆盖且与布线下电极(2)接触,形成下电极引线(7);上电极(8),设置在阈值转变层(6)上。
搜索关键词: 一种 基于 合金 存储器 双向 选通管 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于铝碲合金的存储器双向选通管,包括:衬底(1);在所述衬底(1)上方形成布线沟槽,并沉积扩散阻挡层(3),所述扩散阻挡层(3)覆盖了全部布线沟槽表面,布线下电极(2)设置在所述布线沟槽之中,与所述扩散阻挡层(3)接触;绝缘层(4),设置在所述布线下电极(2)暴露的表面之上,且与所述布线下电极(2)相接触,所述绝缘层(4)内设置有两个钨栓塞(5),并且这两个钨栓塞的侧壁被扩散阻挡层(3)覆盖,其中一个钨栓塞(5)利用阈值转变层(6)覆盖且与所述布线下电极(2)相接触,另一个钨栓塞(5)则用惰性金属材料覆盖且与所述布线下电极(2)接触,形成下电极引线(7);上电极(8),设置在所述阈值转变层(6)之上。
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