[发明专利]一种曝光系统、曝光方法和光刻机有效
| 申请号： | 201810570140.0 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN110568727B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 郭银章 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于半导体投影光刻技术领域的曝光系统、曝光方法和光刻机，包括照明单元、掩模版、投影物镜单元、基底和至少一个衍射光学元件，所述衍射光学元件设置在所述照明单元和/或所述投影物镜单元中，所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近或者远离所述照明单元中的光阑的位置处，和/或部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近或者远离所述投影物镜单元中的光阑的位置处，所述照明单元提供的照明光束依次入射所述掩模版、所述投影物镜单元和所述基底后，将所述掩模版上的图形成像到所述基底上。所述曝光系统、曝光方法和光刻机可有效矫正曝光系统的像差，从而改善成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 系统 方法 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统，其特征在于，包括照明单元、掩模版、投影物镜单元、基底和至少一个衍射光学元件，所述衍射光学元件设置在所述照明单元和/或所述投影物镜单元中，部分所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近所述照明单元中的光阑的位置处，和/或部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近所述投影物镜单元中的光阑的位置处，和/或部分所述衍射光学元件设置在所述照明单元中远离所述照明单元中的光阑的位置处，和/或部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中远离所述投影物镜单元中的光阑的位置处，所述照明单元用于提供照明光束，所述照明光束依次入射所述掩模版、所述投影物镜单元和所述基底后，将所述掩模版上的图形成像到所述基底上。/n
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