[发明专利]一种含浸机构

摘要

本发明公开了一种含浸机构，包括底座，所述底座的上端一体成型有密封板，且底座上安装由与密封板匹配固定的密封盖，所述密封板上等距滑动安装有限位柱，且限位柱的下端固定安装有配合轮，所述限位柱的上方一体成型有限位块，且密封盖上开设有与限位块匹配的配合孔。本发明设计含浸机构能够使得电芯在正压力环境和负压环境下不停转换，能够有效的使含浸液更加快速的深入电芯中，能够高效快速的完成电芯的含浸，而且含浸效率高、质量稳定能耗低，并且在含浸作业的过程中，该装置出与完全密封状态，含浸液不会渗出污染环境，含浸液也能够得到更充分的利用，因此具有很高的实用价值。

主权项

1.一种含浸机构，包括底座(8)，其特征在于：所述底座(8)的上端一体成型有密封板(4)，且底座(8)上安装由与密封板(4)匹配固定的密封盖(1)，所述密封板(4)上等距滑动安装有限位柱(3)，且限位柱(3)的下端固定安装有配合轮(7)，所述限位柱(3)的上方一体成型有限位块(14)，且密封盖(1)上开设有与限位块(4)匹配的配合孔(2)，所述配合轮(7)的外侧啮合安装有与底座(8)同心的齿圈(6)，且密封盖(1)的下方设置有置物架(4)，所述底座(8)的下方固定安装有支撑板(9)，且支撑板(9)上安装有用于驱动齿圈(6)的驱动电机(12)，所述底座(1)的上方设置有含浸槽(13)，且底座(8)上设置有连通外部真空泵和含浸槽(13)的换气装置(13)，所述底座(8)上固定安装有连通含浸槽(13)的换液管道(10)，且换液管道(10)的末端连接外部含浸液供应泵。