[发明专利]像差测量装置及方法有效
| 申请号： | 201810577981.4 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN110568729B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 韩春燕;单世宝 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种像差测量装置及方法，所述像差测量的方法包括：掩模标记单元移动至待测投影物镜单元的视场中心位置；掩模对准单元测量掩模标记单元的预定向上所有标记在预定向位置和Z向位置，并计算预定向上相邻两个标记的预定向位置差值和Z向位置差值，所述预定向为X向和/或Y向；根据预定向上所有相邻两个标记的预定向位置差值和Z向位置差值得到物镜视场预定向V线条或H线条的畸变和场曲。测量时两个相同的预定向探测器同时对标记进行测量，计算时基于预定向上相邻两个标记的预定向位置差值和Z向位置差值，因此本测量不受工件台漂移和工件台运动误差的影响，从而大幅度提高物镜低阶像差的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种像差测量装置，其特征在于，包括：沿空间由上至下顺次分布的对准照明单元、掩模标记单元、待测投影物镜单元以及掩模对准单元，所述掩模对准单元包括至少两个相同的X向和/或Y向探测器，两个相同的X向和/或Y向探测器之间的间距为第一间距。/n
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